澳洲逾320家机构扎堆调研!中微公司(688012.SH)新签订单大幅增长 各产品线持续突破

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智通财经讯,中微公司(688012.SH)在近日接受超320家机构调研时表示,公司目前在手订单饱满,公司高端工艺研发进展顺利,21年新签订单金额同比增长90.5%达41.3亿元,其中以刻蚀产品为主。预计近期公司MOCVD设备的销售将以Mini-LED领域为主设备为主。目前公司产品有部分零部件需要进口,公司采取多厂商策略保障零部件及时供应。南昌基地目前厂内主要道路已施工完毕,各主要单位建筑均已封顶,临港产业化基地主体厂房也完成结构封顶。

公司年报显示,2021年公司在市场拓展、新品研发和财务表现等方面均进展不俗。其中,产品在关键客户市场的接受度和销售额稳步提升,高端工艺研发进展顺利,新签订单金额同比增长90.5%达41.3亿元,其中以刻蚀产品为主。产品付运腔体数由2020年的295腔增长66.4%达491腔,营业收入同比增长36.7%达31.08亿元,归母净利润同比增长105.5%达10.11亿元。2022年第一季度,公司实现营业收入9.49亿元,较上年同期增加约3.46亿元,同比增长57.31%。

在逻辑集成电路制造环节,中微公司开发的12英寸高端刻蚀设备已运用在国际知名客户65纳米到5纳米等先进的芯片生产线上;同时,公司根据先进集成电路厂商的需求,已开发出小于5纳米刻蚀设备用于若干关键步骤的加工,并已获得行业领先客户的批量订单。公司目前正在配合客户需求,开发新一代刻蚀设备和包括更先进大马士革在内的刻蚀工艺,能够涵盖5纳米以下更多刻蚀需求和更多不同关键应用的设备。

在3DNAND芯片制造环节,中微公司的电容性等离子体刻蚀设备可应用于64层和128层的量产,同时公司根据存储器厂商的需求正在开发新一代能够涵盖128层及以上关键刻蚀应用以及相对应的极高深宽比的刻蚀设备和工艺。此外,公司的电感性等离子刻蚀设备已经在多个逻辑芯片和存储芯片厂商的生产线上量产,根据客户的技术发展需求,正在进行下一代产品的技术研发,以满足5纳米以下的逻辑芯片、1X纳米的DRAM芯片和128层以上的3DNAND芯片等产品的ICP刻蚀需求,并进行高产出的ICP刻蚀设备的研发。

关于目前的Mini-Led市场,中微公司表示,Mini-LED作为一种新兴技术备受关注。Mini-LED具有高亮度、精确的动态响应和高对比度等优势,能够显著提升显示品质。2021年以来,Mini-LED在电视机领域取得了良好应用,在显示器、笔记本、平板等领域,Mini-LED产品也开始批量出货。预计近期公司MOCVD设备的销售也将以Mini-LED领域为主设备为主。

基地建设方面,公司南昌基地和临港基地建设进展按照计划正常进行中。其中南昌基地目前厂内主要道路已施工完毕,各主要单位建筑均已封顶。临港产业化基地主体厂房也完成结构封顶。

目前海外供应链压力较大,在被问到公司核心原材料或核心零部件的进口情况时公司表示,目前公司产品有部分零部件需要进口,公司采取多厂商策略保障零部件及时供应。公司一直坚持合法合规经营,并严格遵守各经营地的包括出口管制在内相关法律法规。

有投资者提到在网上较少见到公司的产品中标,中微公司在调研中回应,公司积极关注下游市场扩产计划并努力争取各种可能的市场机会,公司的刻蚀设备在国内主要客户端市场占有率不断提升。网上披露的中标情况可能属于分阶段或分批次披露。公司目前在手订单饱满。

具体调研内容如下:

一、公司2021年业绩情况:

公司2021年在市场拓展、新品研发和财务表现等方面均进展不俗。其中,产品在关键客户市场的接受度和销售额稳步提升,高端工艺研发进展顺利,新签订单金额同比增长90.5%达41.3亿元,产品付运腔体数由2020年的295腔增长66.4%达491腔,营业收入同比增长36.7%达31.08亿元,归母净利润同比增长105.5%达10.11亿元。2021年公司综合优势继续得到强化和提升,各经营指标的增长性在行业中跻身领先企业之一。

二、公司2022年第一季度业绩情况:

公司本期营业收入9.49亿元,较上年同期增加约3.46亿元,同比增长57.31%,主要系:(1)受益于半导体设备市场发展及公司产品竞争优势,本报告期刻蚀设备收入为7.14亿元,较上年同期增长约105.03%;(2)由于公司新签署的Mini-LEDMOCVD设备规模订单在本期尚未确认收入,MOCVD设备本期收入为0.42亿元,较上年同期下降约68.59%。本期归属于上市公司股东的扣除非经常性损益的净利润为1.86亿元,较上年同期的0.11亿元增加1.75亿元,同比增长1,578.18%,主要系本期营业收入较上年同期增加3.46亿元,同时本期毛利率从去年的40.92%增长至45.47%,增加4.55个百分点,本期毛利较上年同期增加约1.85亿元。本期归属于上市公司股东的净利润为1.17亿元,较上年同期减少约0.21亿元,下降约14.94%,主要系本期收入和毛利增长下扣除非经常性损益的净利润较上年同期增加1.75亿元,但本期非经常性损益较上年同期减少约1.96亿元。非经常性损益的变动主要包括:(1)本期计入当期损益的政府补助收益为0.04亿元,较上年同期的1.69亿元减少约1.65亿元;(2)由于公司持有的中芯国际和天岳先进的股票价格在本期有较大下降,公司本期产生相关的公允价值变动损失1.01亿元,而上年同期公司股权投资为损失0.24亿元,该因素导致本期利润较上年同期减少约0.77亿元。

三、问答环节主要内容:

问:2021年公司刻蚀设备收入20亿元,同比提升55.4%,公司CCP设备已批量应用于国内外一线客户的集成电路生产线,并持续提升市场占有率,在部分客户市场占有率已进入前三位甚至前二位。请公司结合下游需求情况说明公司刻蚀设备的高速增长是否可持续,并说明公司将采取哪些措施进一步提升公司刻蚀设备产品的技术优势以及市占率水平。

答:随着国际上先进芯片制程从14纳米到10纳米阶段向7纳米、5纳米及更先进工艺的方向发展,当前光刻机受光波长的限制,需要结合刻蚀和薄膜设备,采用多重模板工艺,利用刻蚀工艺实现更小的尺寸,使得刻蚀技术及相关设备的重要性进一步提升。公司为进一步提升公司刻蚀设备产品的技术优势以及市占率水平,采取的措施包括但不限于:(1)公司将不断完善研发管理机制和创新激励机制,对在技术研发、产品创新、专利申请等方面做出突出贡献的技术研发人员给予奖励,激发技术研发人员的工作热情。(2)公司将持续加大研发投入力度,搭建更好的研发实验环境,为技术突破和产品创新提供重要的基础和保障。(3)设备的研发方面,公司在持续改善现有设备的性能的同时,将根据先进逻辑芯片和高密度存储DRAM和3DNAND芯片的不同刻蚀需求,细分产品,开发不同的硬件特征,提高产品针对不同应用的刻蚀性能,满足不同客户的需求。与此同时,公司会根据客户的研发需求,定义下一代产品的技术指标和技术路线,开发能满足客户需求的新产品。

问:公司目前的收入里面,刻蚀产品和MOCVD产品的占比情况

答:2021年营业收入31.08亿元,其中刻蚀设备收入为20.04亿元,占收入比例约为64.48%;MOCVD设备收入为5.03亿元,占收入比例约为16.18%。2022年第一季度营业收入9.49亿元,其中刻蚀设备收入为7.14亿元,占收入比例约为75.24%;MOCVD设备收入为0.42亿元,占收入比例约为4.43%。

问:请问2021年新签订单中,产品的分布情况

答:公司2021年新签订单41.3亿元,同比增长90.5%,其中以刻蚀产品为主。

问:公司2021年末合同负债金额同比提升132%,这块主要是什么

答:合同负债为公司的预收账款。公司2021年新签订单金额达41.3亿元,同比增长90.5%,因此2021年末合同负债的余额较2020年末有较大增长。

问:请问公司在薄膜设备方面的进展如何是投资相关公司还是自己研发生产

答:公司目前已经组建团队在开发LPCVD设备和EPI设备,研发进展按计划进行中,同时公司将在适当时机通过并购等外延式成长途径扩大产品和市场覆盖。

问:MOCVD业务在手订单情况不错,MOCVD毛利率提升幅度大的原因是什么

答:公司新的MOCVD产品型号PrismoUniMax主要针对Mini-LED设计,性能、复杂性提高很多,提供更多的价值给用户,毛利率有明显增长。

问:怎么看目前的Mini-Led市场以及公司相关设备的前景

答:Mini-LED作为一种新兴技术备受关注。Mini-LED具有高亮度、精确的动态响应和高对比度等优势,能够显著提升显示品质。2021年以来,Mini-LED在电视机领域取得了良好应用,在显示器、笔记本、平板等领域,Mini-LED产品也开始批量出货。预计近期公司MOCVD设备的销售也将以Mini-LED领域为主设备为主。

问:公司MOCVD设备的于2021年毛利率达到33.77%,较2020年的18.65%提升15.11个pct。请公司结合MOCVD设备的销售情况说明毛利率同比提升的原因,并结合下游Mini-LED市场的发展情况介绍公司MOCVD产品未来的发展预期。

答:公司MOCVD设备的于2021年毛利率达到33.77%,较2020年的18.65%提升15.11个pct。

问:公司目前员工人数

答:公司截止2021年底,员工人数1048人。

问:公司的人才培养计划是怎么样的

答:公司高度重视人才的吸引和发展。2021年,公司进从国内外吸引了行业经验丰富的管理及技术人才,并从知名院校中挑选了一批优秀的毕业生。公司建立人才梯队培养机制,采用企业内训、外聘内训和委外培训相结合的方式,开展多维度、多层次的培训项目,让员工与企业共同进步,共同成长。为吸引和保留核心骨干人才,公司不断探索员工激励机制,促进公司长远发展。

问:公司南昌基地和临港基地建设进展怎么样了

答:公司南昌基地和临港基地建设进展按照计划正常进行中。其中南昌基地目前厂内主要道路已施工完毕,各主要单位建筑均已封顶。临港产业化基地主体厂房也完成结构封顶。

问:公司在先进制程的刻蚀装备上大致情况如何

答:公司积极关注下游市场扩产计划并努力争取各种可能的市场机会,公司的刻蚀设备在国内主要客户端市场占有率不断提升。在逻辑集成电路制造环节,公司开发的12英寸高端刻蚀设备已运用在国际知名客户65纳米到5纳米等先进的芯片生产线上;同时,公司根据先进集成电路厂商的需求,已开发出小于5纳米刻蚀设备用于若干关键步骤的加工,并已获得行业领先客户的批量订单。公司目前正在配合客户需求,开发新一代刻蚀设备和包括更先进大马士革在内的刻蚀工艺,能够涵盖5纳米以下更多刻蚀需求和更多不同关键应用的设备。在3DNAND芯片制造环节,公司的电容性等离子体刻蚀设备可应用于64层和128层的量产,同时公司根据存储器厂商的需求正在开发新一代能够涵盖128层及以上关键刻蚀应用以及相对应的极高深宽比的刻蚀设备和工艺。此外,公司的电感性等离子刻蚀设备已经在多个逻辑芯片和存储芯片厂商的生产线上量产,根据客户的技术发展需求,正在进行下一代产品的技术研发,以满足5纳米以下的逻辑芯片、1X纳米的DRAM芯片和128层以上的3DNAND芯片等产品的ICP刻蚀需求,并进行高产出的ICP刻蚀设备的研发。

问:公司目前研发人员占比情况

答:公司研发人员占比约为40%。

问:海外供应链压力很大。公司核心原材料或核心零部件从外国进口的比例是否有受限风险

答:目前公司产品有部分零部件需要进口,公司采取多厂商策略保障零部件及时供应。公司一直坚持合法合规经营,并严格遵守各经营地的包括出口管制在内相关法律法规。

问:网上较少见到中微公司的产品中标,请问是出于什么原因

答:公司积极关注下游市场扩产计划并努力争取各种可能的市场机会,公司的刻蚀设备在国内主要客户端市场占有率不断提升。网上披露的中标情况可能属于分阶段或分批次披露。公司目前在手订单饱满。

问:公司今年发布了ESG报告,后续是否会持续发布

答:公司致力于为客户和市场提供性能优越、高生产效率和高性价比产品,促进技术创新、引领行业发展的同时,高度重视在环境、社会及管治(ESG)等领域的建设,公司把ESG作为公司持续发展大政方针,给产业和社会,给国家和全球在经济和社会可持续发展上贡献更大的力量。我们后续也会持续发布ESG报告。

问:关注到公司在年报披露了企业文化及治理内容,这些措施如何使企业发展受益

答:公司在2021年总结自成立以来的发展经验,全面梳理公司核心价值观和企业文化,总结了四个十大,即“产品开发的十大原则”、“战略销售的十大准则”、“营运管理的十大章法”和“精神文化的十大作风”。公司通过总结并宣导“四个十大”,落实科学管理和营运体系,倡导先进的企业文化,不断提升企业经营质量,提高员工的向心力和积极性,打造能孕育、保持创造力和发展力的中微大平台。同时,公司通过文化宣导和输出,希望和海内外合作伙伴一起努力实现技术进步和并推动产业的快速发展。

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